1 通過深紫外光刻和感應耦合等離子刻蝕設備，制備了所設計的器件。
2 采用反應離子刻蝕，各向異性化學腐蝕及自限制熱氧化過程在SOI襯底上制備出高質量的超精細硅量子線。
3 通過優化刻蝕參數，獲得了側壁粗糙度和傳輸損耗相對較低的SOI脊形波導。
4 由此解釋了無刻蝕鍍鐵層具有高結合強度的原因。
5 等離子體低溫刻蝕是一種針對高深寬比結構的干法刻蝕技術。
6 通過納米制備技術研究者在氮化硅中刻蝕出許多空洞以構成所需圖案，使得波導具有合適的隱形折射率。
7 最后利用三維表面形貌儀，分別對濕法刻蝕和干法刻蝕的磁頭結構進行了數據分析。
8 對硅的干法刻蝕技術是現代半導體工業中非常重要的一項工藝。
9 該器件采用一次深刻蝕與一次淺刻蝕，從而屏蔽掉“靜態鏡面”的影響。
10 本文以金屬刻蝕去膠腔為背景，簡述干刻清洗工藝開發和評價過程。
11 本發明過孔的制備過程工藝簡單，操作性比通過刻蝕的方法方便，降低了工藝成本。
12 刻蝕工藝的分辨率是圖形轉移保真度的量度.
13 并且詳細論述離子刻蝕的原理以及離子源的參數設計。
14 本發明公開了一種刻蝕停止層，包括在襯底上形成的含氮的碳化硅層，以及位于所述碳化硅層之上的氮化硅層。
15 硅片的一部分經掩膜后進行SF6干法刻蝕，從而使集流器能夠連接到外電路上。
16 蘸水筆技術是近年來發展起來的一種新的掃描探針刻蝕加工技術，有著廣泛的應用前景。
17 田納西河刻蝕著坎伯蘭高原的東部邊緣.
18 目前，刻蝕技術已經成為集成電路生產中的標準技術，干法刻蝕設備亦成為關鍵設備。
19 用電子束刻蝕法在晶片上鍍上納米級鋁層形成了電感器。
20 介紹了一種無刻蝕直流鍍鐵工藝。造 句 網
21 運用相位掩模法刻蝕光纖光柵，該方法對光源的時間相干性和單色性要求較低，工藝簡單，成品率高。
22 衍射光學元件在制作過程中,存在掩模對準、線寬和刻蝕深度等制作誤差.
23 你有信仰就年輕，疑惑就年老。有自信就年輕，畏懼就年老。有希望就年輕，絕望就年老。歲月刻蝕的不過是你的皮膚，但如果失去了熱忱，你的靈魂就不再年輕。
24 在器件中引入增益耦合機制以提高單模成品率，并采用感應耦合等離子體干法刻蝕技術以降低調制器電容。
25 對這種結構的形變特性進行了實驗測試，考慮到測量誤差與濕法刻蝕造成膜表面的不平整因素，測實結果與模擬結果較為相符。
26 本項研究是在分析比較現有各種鍍鐵工藝的基礎上，采用了一種新的無刻蝕鍍鐵及其復合鍍工藝。
27 曲軸修理過程中進行曲軸剩余強度校核十分重要，結合董氏無刻蝕鍍鐵工藝修復十分可靠。文中以某輪曲軸修復為例，介紹了鍍鐵修復工藝及曲軸強度校核計算。
28 通過對光刻工藝過程的研究，可為較好地控制正性光刻膠面形，制作微機械、微光學器件提供了參考依據，對微浮雕結構的深刻蝕具有重要的指導意義。
29 研究常壓等離子射流處理對羊毛織物正反面染色性的影響，從而探索常壓等離子射流刻蝕在織物中的滲透性。
30 應用感應耦合等離子體技術首次實現了對銻化銦薄膜的干法刻蝕.
